三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的，可在钙的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。

三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清洁剂”的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是“化学气相沉积”（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成分有可能是硅、二氧化硅或其他金属材料，但这些材料不仅会附着在芯片上，也附着在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化硅累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的硅化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

目前全球供应NF3气体的厂商主要有四家，最大供应商为美国的Air Product（APCI），在台代理商是三福化工，其余三家皆为日本公司，分别为三井、关东电化（KDK），以及Central Gas。